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半導体関連装置

NEO EFEM装置

概要

・EFEM内の湿度を低減し、ウェーハ表面の欠陥発生や不要な酸化を最小限に抑えることで
 歩留まり向上を実現

特徴

・既存のEFEMから短時間で改造することが可能

・追加のユーティリティ (N2 または CDA) なしで「N2 EFEM環境」を実現

・コスト削減に寄与します

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